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XTrace-基于SEM高性能微區(qū)熒光光譜儀采用了Ｘ射線毛細(xì)導(dǎo)管技術(shù)，利用該技術(shù)，即使在非常小的樣品區(qū)域也能產(chǎn)生很高的熒光強(qiáng)度。Ｘ射線毛細(xì)導(dǎo)管將Ｘ射線源的大部分射線收集，并將其聚焦成直徑35微米的一個(gè)Ｘ射線點(diǎn)。

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更新日期：2023-03-20

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精密刻蝕鍍膜系統(tǒng)PECS II 685，一款桌面型寬束氬離子拋光及鍍膜設(shè)備。對(duì)于同一個(gè)樣品，可在同一真空環(huán)境下完成拋光及鍍膜。

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更新日期：2023-03-20

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ChromaCL2第二代實(shí)時(shí)彩色陰極發(fā)光成像系統(tǒng)，是一款*的產(chǎn)品。它具有高效的光學(xué)采集和色散能力，采用陣列光電倍增管得到高增益光探測能力。通過DigitalMicrograph軟件實(shí)時(shí)地將光子脈沖信號(hào)混合成實(shí)時(shí)彩色陰極發(fā)光圖像。

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更新日期：2023-03-20

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Gatan原位加熱臺(tái)Murano 525,精悍緊湊，能方便地與大多數(shù)掃描電鏡的標(biāo)準(zhǔn)樣品臺(tái)接口，它包含一個(gè)絕熱接口，適用于二次電子像、電子背散射衍射（EBSD）與聚焦離子束（FIB）加工。能夠?qū)Υ笾?mm x 4.5mm x 1.5mm大小的樣品進(jìn)行快速加熱。

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更新日期：2023-03-20

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MICROTEST 2000E系列原位動(dòng)態(tài)拉伸試驗(yàn)臺(tái)，可以對(duì)金屬樣品施加高達(dá)2000N的拉力，用戶EBSD分析，或者對(duì)一些其他材料進(jìn)行常規(guī)的應(yīng)力-應(yīng)變分析和SEM成像。試樣夾具70度角度傾斜，為EBSD分析提供了的設(shè)置。

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更新日期：2023-03-20

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MICROTEST系列原位動(dòng)態(tài)拉伸試驗(yàn)臺(tái),金屬及鍍層：用于研究晶粒變化、鍍層結(jié)合情況、高溫形變及松弛機(jī)理、晶粒旋轉(zhuǎn)及織構(gòu)變化。復(fù)合材料：用于研究材料韌性及強(qiáng)度;纖維：研究材料強(qiáng)度

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更新日期：2023-03-20

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